真空旋轉涂膜機

1、引言

主要應用于大專院校、科研院所的實驗室中的薄膜形成。本機利用高速旋轉使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面

2、主要技術指標

電源：AC220V 50Hz

功率：200W

旋轉盤：?200mm

轉速：500rpm-6000rpm

時間：1s-60s

真空泵流速：>60L/min

尺寸：500mm×400mm×400mm

重量：30kg

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一、設備定義與工作原理

1. 基本定義
   真空旋轉涂膜機是一種在真空或惰性氣體環境中，通過旋轉基材實現均勻涂層的設備。其核心功能是解決常規涂膜無法處理的材料氧化、揮發或均勻性問題

2. 工作原理

• 真空吸附固定：樣品通過真空吸盤固定在旋轉平臺上，避免偏心震動

• 分段程序控制：設備支持多段轉速調節（通常6-16段程序），每段可獨立設置轉速（500-20,000rpm）、加速率（100-6,000rpm/s）及時間（0-999s），實現從低速注膠到高速勻膠的過渡

• 濺射涂覆：在真空環境下，靶材材料被濺射到旋轉基材表面，形成均勻薄膜

二、核心結構與技術特點

1. 關鍵組件
   | 組件 | 功能說明 |
   |------------------|----------------------------------------------------------------------------|
   | 真空腔體 | 聚丙烯或聚四氟乙烯材質，耐強酸/強堿腐蝕（如VTC-100PA型號）
   | 直流無刷電機 | 提供無級調速，噪音低、啟停平穩，確保涂層厚度一致性
   | 無油真空泵 | 避免油污污染，抽氣流量≥60L/min，真空度達-0.08MPa或1Torr
   | 多規格吸盤 | 適配φ19mm至φ203.5mm樣品，支持快速更換

2. 智能控制與安全設計

• 觸摸屏/液晶控制：支持中英文界面，可存儲12-16組程序（如VTC-100PAH）

• 開蓋保護：運行中開蓋自動減速停機，防止意外

• 惰性氣體兼容：可在Ar、N?等氣氛中操作，保護敏感材料

三、核心應用領域

1. 半導體與光學器件

• 晶圓光刻膠涂覆、光盤表面鍍膜（如VTC-200PV型號）

• 防止氧化材料（如鈣鈦礦）的薄膜制備

2. 材料研究與特殊場景

• 強酸/堿溶液涂膜（如瀝青混合料測試）

• 高溫涂膜需求：可選配加熱功能（RT-200℃）

3. 科研與質量控制

• 高校及研究所的薄膜生成實驗（如VTC-100系列）

• 工業領域的小批量生產質量控制

四、選型要點參考

| 參數 | 典型范圍 | 選型建議 |
|------------------|--------------------------|-------------------------------------------|
| 轉速范圍 | 500-20,000rpm | 高精度實驗選＞10,000rpm型號（如VTC-100PAH）
| 程序段數 | 6-16段 | 復雜工藝需多段控制
| 真空度 | -0.08MPa至1Torr | 高揮發材料需更高真空
| 耐腐蝕性 | 聚丙烯/聚四氟乙烯腔體 | 強酸/堿環境必選|

五、典型型號對比

| 型號 | 轉速(rpm) | 程序段數 | 特殊功能 | 適用場景 |
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| VTC-100PA | 500-10,000 | 6段×12組 | 耐強酸/堿腔體 | 常規實驗室涂膜
| VTC-200PV | 500-6,000 | 6段×12組 | 真空/惰性氣體雙模式 | 易氧化材料
| VTC-100PAH | 1,500-20,000| 16段 | 7寸觸控屏，高溫選項（RT-200℃）| 科研