1.基礎參數(shù)與型號

寧波生產(chǎn)的工業(yè)級顯微鏡，型號分為：

• S-20-P/S-20A-P：無光源配置（P型）。

• S-20-L/S-20A-L：配備上光源（L型）。

• S-20-2L/S-20A-2L：上下雙光源（2L型）

2. 光學系統(tǒng)

• 放大倍率：基礎倍率為5X-120X（通過更換物鏡和目鏡組合實現(xiàn)），標準配置為20X，可擴展至120X

• 目鏡：標配WF10X廣角目鏡（視場20mm），可選配WF5X、WF15X、WF20X等

• 物鏡：插入式消色差物鏡，可選1X、2X、3X、4X、6X，工作距離覆蓋33-81mm

3. 機械結構

• 觀察頭：45°傾斜雙目設計，瞳距調(diào)節(jié)范圍55-75mm，單視度調(diào)節(jié)±5屈光度，適合長時間舒適觀察

• 機架類型：提供立柱式（常規(guī)）和彎臂式（A型），底座分為無光源平底座（S20B1）、上光源高低底座（S20B2）、上下光源高底座（S20B3）

4. 照明系統(tǒng)

• 光源配置：標配12V/10W白熾燈或鹵素燈（通過CE、GS認證），230V/115V電源適配

• 雙光源優(yōu)勢：2L型支持入射光與透射光，配合暗場聚光鏡和寶石夾，可用于珠寶、寶石的細節(jié)觀察

5. 應用場景

• 工業(yè)領域：精密零件裝配檢驗、電子元件檢測（如電路板、芯片）

• 科研與教育：生物學組織觀察、地質(zhì)礦物分析、考古文物研究

• 特殊用途：珠寶鑒定（需選配暗場聚光鏡）

6. 配件與擴展

• 可選配件：暗場聚光鏡、寶石夾、切片壓片、不同倍率物鏡/目鏡組合

• 包裝與維護：獨立泡沫箱包裝，光源模塊可更換，維護便捷

S20系列體視顯微鏡總結

S20系列以模塊化設計、高性價比和廣泛適用性為特點，適合需要立體成像且對工作距離有要求的場景。具體參數(shù)需根據(jù)實際型號（如光源類型、物鏡組合）調(diào)整。如需更詳細技術規(guī)格，可參考廠商頁面S20體視顯微鏡具有斜筒設計，共有三種類型的底座，分別是S-10-P無光源，S-10-L配有入射光源，S-20-2L配有入射光源及透射光源。該系列顯微鏡的放大范圍是5X-140X，總放大倍數(shù)為40X，目鏡為WF10X，消色差物鏡為4X，鏡筒為雙目斜筒45°，調(diào)焦范圍為40mm，行程為90mm

S20系列體視顯微鏡詳解

一、產(chǎn)品概述

S20體視顯微鏡是一款專為專業(yè)應用設計的高質(zhì)量顯微鏡，采用45°傾斜雙目觀察頭設計，提供舒適的觀察體驗。其放大倍數(shù)范圍廣（5X-120X），支持多種機架和底座配置，適用于醫(yī)療、電子、精密機械、教學及科研等領域

1. 機架類型

• 立柱式：適用于常規(guī)觀察和操作空間較大的場景。

• 彎臂式（帶A型顯微鏡）：靈活性更高，適合需要多角度觀察的場景

2. 底座類型

• P型：無光源，適合無需額外照明的簡單觀察。

• L型：配備入射光源，適用于表面觀察。

• 2L型：同時配備入射光源和透射光源，支持上下雙光源照明，適合復雜樣品分析

三、技術參數(shù)

1. 光學系統(tǒng)

• 物鏡：插入式設計，可選1X、3X、4X、6X等倍率，工作距離范圍5.00mm-56.00mm

• 目鏡：廣視場目鏡（WF5X、WF15X、WF20X），提供清晰寬廣的視場

• 放大倍數(shù)：基礎倍數(shù)20X，通過選配物鏡可擴展至120X

2. 照明系統(tǒng)

• 光源類型：12V/10W白熾燈或鹵素燈（支持230V/115V電壓），通過CE、GS認證

• 特殊配置：2L機型可選配暗場聚光鏡和寶石夾，用于珠寶、寶石等高反射樣品的觀察

3. 調(diào)節(jié)功能

• 屈光度調(diào)節(jié)：單視度范圍±5屈光度，適應不同視力需求。

• 調(diào)焦范圍：40mm行程，確保精細對焦

四、性能特點

1. 人體工學設計

• 45°傾斜觀察頭可減少頸部疲勞，雙目視度可調(diào)，適合長時間觀察

• 底座光源可調(diào)節(jié)，支持斜照明，優(yōu)化樣品照明效果

2. 成像質(zhì)量

• 消色差物鏡確保圖像清晰無色差，真實還原樣品色彩

• 鍍膜光學部件提升對比度和分辨率，減少眩光干擾

3. 擴展性

• 支持多種附件，如暗場裝置、分劃目鏡、數(shù)碼攝像頭等，滿足科研和工業(yè)檢測需求

五、應用領域

• 工業(yè)檢測：電子元件裝配、精密零件檢驗、PCB板分析。

• 科研教育：生物標本觀察、地質(zhì)礦物研究、醫(yī)學病理分析。

• 特殊領域：珠寶鑒定、寶石切割、半導體材料檢查（需選配暗場聚光鏡）